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Plasma processing apparatus and plasma temperature measuring method

机译:等离子体处理装置及等离子体温度测量方法

摘要

Nitrogen gas plasma emission intensities are theoretically calculated at various gas temperatures, while they are actually measured by a spectroscope. By comparing the waveforms of the calculated and measured emission intensities with each other, the nitrogen gas temperature at an arbitrary point in a plasma treating room can be determined.
机译:理论上是在各种气体温度下计算氮气等离子体的发射强度,而实际上是由分光镜测量的。通过将计算出的发光强度和测量出的发光强度的波形相互比较,可以求出等离子体处理室中的任意点的氮气温度。

著录项

  • 公开/公告号KR890013967A

    专利类型

  • 公开/公告日1989-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 다니이 아끼오;

    申请/专利号KR1019890001928

  • 发明设计人 이시하라 신이찌로오;

    申请日1989-02-18

  • 分类号H05H1/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 06:33:09

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