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plasmachemisches method for deposition of a protective coating on metallkontakte of a indiii b indv - connection and mischverbindungshalbleiteroberflaechen

机译：等离子化学方法在[indiii] b [indv]-连接和杂化金属的金属合金上沉积保护涂层

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公开/公告号DD295279A5

专利类型
公开/公告日1991-10-24

原文格式PDF
申请/专利权人 WERK FERNSEHELEKTRONIK VEB DE;
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申请/专利号DD19900341628
发明设计人 SZUSZINSKI KURT DE;JANIETZ PETER-JOHANNES DE;DENECKE JOERG DE;EIBNER WOLFGANG DE;REHAK WOLFGANG DE;
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申请日1990-06-13
分类号H01L21/30;
国家 DD
入库时间 2022-08-22 05:59:06

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