首页> 外国专利> METHOD FOR TREATMENT OF DIELECTRIC BEFORE CHEMICAL COPPER-PLATING

METHOD FOR TREATMENT OF DIELECTRIC BEFORE CHEMICAL COPPER-PLATING

机译:化学镀铜前的介电处理方法

摘要

the invention u043eu0442u043du043eu0441u0438u0442u0441u00a0 to unrealized density, in particular ceramics on the basis of u043du0438u0442u0440u0438u0434u0430 u0430u043bu044eu043cu0438u043du0438u00a0 and may be used in electronic industry u0434u043bu00a0 u043du0430u043du0435u0441u0435u043du0438u00a0 copper coating in the production elements u0433u0430u0437u043eu0440u0430u0437u0440u00a0u0434u043du044bu0445 devices and u043fu043eu0437u0432u043eu043bu00a0u0435u0442 reach u043fu043eu0432u044bu0448u0435u043du0438u00a0 corrosion resistance and adhesion to u043fu043eu043au0440u044bu0442u0438u00a0 ker u0430u043cu0438u043au0435.before chemical copperizing ceramics process within 5 to 10 min in solution of the mas.%, u0441u0435u0440u043du0430u00a0 acid 91,87 - 91,17, u0431u0438u0445u0440u043eu043cu0430u0442 u043au0430u043bu0438u00a0 7.5 approached 7.73, u0434u0438u043du0430u0442u0440u0438u0435u0432u0430u00a0 salt u044du0442u0438u043bu0435u043du0434 u0438u0430u043cu0438u043du0442u0435u0442u0440u0430 - acetic acid (u0442u0440u0438u043bu043eu043d b) 0.63 - 1.10. u0430u0434u0433u0435u0437u0438u00a0 copper to the treated surface u043du0438u0442u0440u0438u0434u0430 u0430u043bu044eu043cu0438u043du0438u00a0 4.0 - 6.5 mpa, u043au043eu0440u0440u043eu0437u0438u043eu043du043du0430u00a0 resistance among the 3% of r ra NaCI with 60 & deg; 30 to 35 days. 1, table 2).
机译:本发明 u043e u0442 u043d u043e u0441 u0438 u0442 u0441 u00a0到未实现的密度,特别是基于 u043d u0438 u0442 u0440 u0438 u0434 u0430 u0430 u043b u044e u043c u0438 u043d u0438 u00a0,可用于电子行业 u0434 u043b u00a0 u043d u0430 u043d u0435 u0441 u0435 u043d u0438 u00a0铜涂层在生产元素 u0433 u0430 u0437 u043e u0440 u0430 u0437 u0440 u00a0 u0434 u043d u044b u0445设备和 u043f u043e u0437 u0432 u043e u043b u00a0 u0435 u0442到达 u043f u043 u0432 u044b u0448 u0435 u043d u0438 u00a0的耐腐蚀性和对 u043f u043e u043a u043a u0440 u044b u0442 u0438 u00a0 ker u0430 u043c u043c u0438 u043a u0435的耐腐蚀性和粘附性在质量浓度为5%到10分钟的过程中, u0441 u0435 u0440 u043d u0430 u00a0酸91,87-91,17, u0431 u0438 u0445 u0440 u043e u043c u0430 u0442 u043a u0430 u043b u0438 u00a0 7.5接近7.73, u0434 u0438 u043d u0430 u0442 u0440 u0438 u04 35 u0432 u0430 u00a0盐 u044d u0442 u0438 u043b u0435 u043d u043d u0434 u0438 u0430 u043c u0438 u043d u0442 u0435 u0442 u042 u0440 u0430-乙酸( u0442 u04 u0438 u043b u043e u043d b)0.63-1.10。 u0430 u0434 u0433 u0435 u0437 u0438 u00a0将铜连接到被处理表面 u043d u0438 u0442 u0440 u0438 u0434 u0430 u0430 u043b u044e u043e u043c u0438 u043d u0438 u00a0 4.0 -在3%的r Ra NaCI中,电阻为6.5 mpa, u043a u043e u0440 u0440 u043e u0437 u0438 u043e u043d u043d u0430 u00a0的电阻为60° 30至35天。 1,表2)。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号