首页> 外国专利> Method for improving step coverage of a metallization layer on an integrated circuit by use of molybdenum as an anti-reflective coating

Method for improving step coverage of a metallization layer on an integrated circuit by use of molybdenum as an anti-reflective coating

机译:通过使用钼作为抗反射涂层来改善集成电路上金属化层的阶梯覆盖的方法

摘要

A method for improving step coverage of metallization layers of an aluminum alloy on an integrated circuit involves use of a deposited layer of molybdenum as an anti-reflective coating to increase the efficient use of laser energy for planarization purposes where the underlying aluminum alloy covers a step, such as an open contact hole or via.
机译:一种用于改善集成电路上铝合金的金属化层的阶梯覆盖率的方法,该方法包括使用钼沉积层作为抗反射涂层,以提高用于平面化目的的激光能量的有效利用,其中下面的铝合金覆盖一个台阶,例如开放的接触孔或通孔。

著录项

  • 公开/公告号US5066611A

    专利类型

  • 公开/公告日1991-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号US19900575942

  • 发明设计人 CHANG YU;

    申请日1990-08-31

  • 分类号H01L21/26;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 05:23:40

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号