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SUPERPOLISHING AGENT, PROCESS FOR POLISHING HARD MATERIALS, AND POLISHED HARD MATERIALS

机译:超级抛光剂,对硬质材料进行抛光的过程以及对硬质材料进行抛光的过程

摘要

PCT No. PCT/US92/06155 Sec. 371 Date Oct. 26, 1994 Sec. 102(e) Date Oct. 26, 1994 PCT Filed Jul. 20, 1992 PCT Pub. No. WO93/01914 PCT Pub. Date Feb. 4, 1993A process for superpolishing hard ceramic substrates, and super polished substrates having surface finishes below about 20 angstroms RMS. In the first embodiment, the process comprises applying a pitch to a lap tool and forming channels in the pitch. The pitch is wetted with a polishing compound comprising colloidal alumina and powder of a substance harder than that being polished. The substrate is brought into contact with the wetted pitch, and relative motion is applied thereto to polish the substrate. In a second embodiment, microporous pads are used which absorb the polishing compound and contact the substrate to polish the same.
机译:PCT号PCT / US92 / 06155秒371日期1994年10月26日102(e),1994年10月26日,PCT,1992年7月20日提交,PCT Pub。 PCT公开号WO93 / 01914。日期:1993年2月4日,该方法用于对硬质陶瓷基体和表面质量低于RMS 20的超抛光基体进行超抛光。在第一实施例中,该过程包括将斜度施加到研磨工具并在该斜度中形成通道。用包含胶态氧化铝和比被抛光的物质坚硬的物质的粉末的抛光化合物润湿沥青。使基材以润湿的沥青接触,并对其施加相对运动以抛光基材。在第二实施例中,使用微孔垫,其吸收抛光化合物并接触基板以对其进行抛光。

著录项

  • 公开/公告号AU2416192A

    专利类型

  • 公开/公告日1993-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KENNETH W. FULTON;

    申请/专利号AU19920024161

  • 发明设计人 KENNETH W. FULTON;

    申请日1992-07-20

  • 分类号B24B37/04;C09K3/14;

  • 国家 AU

  • 入库时间 2022-08-22 05:07:59

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