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Finely divided silicon with superficially bonded halogen, process for its production and application

机译:具有卤素表面键合的细碎硅及其生产和应用工艺

摘要

PCT No. PCT/EP92/00943 Sec. 371 Date Oct. 27, 1993 Sec. 102(e) Date Oct. 27, 1993 PCT Filed Apr. 30, 1992 PCT Pub. No. WO92/19626 PCT Pub. Date Nov. 12, 1992In the production of an organochlorosilane by reaction of silicon with at least one of an alkyl or aryl chloride in the presence of a copper catalyst, the improvement which comprises employing as the silicon fine-particle silicon containing surface-bound chlorine produced by contacting fine-particle silicon in reactive form with gaseous or liquid chlorine.
机译:PCT号PCT / EP92 / 00943第二部分371日期1993年10月27日102(e),1993年10月27日,PCT,1992年4月30日,PCT公开。 WO92 / 19626 PCT公布日期1992年11月12日,在硅与烷基氯或芳基氯中的至少一种在铜催化剂的存在下反应制得有机氯硅烷的过程中,该改进包括将含硅的表面结合的氯用作硅细颗粒。通过使反应性形式的细小硅与气态或液态氯接触而制得。

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