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X-ray mask support member, X-ray mask, and X-ray exposure process using the X-ray mask

机译:X射线掩模支撑构件,X射线掩模以及使用X射线掩模的X射线曝光工艺

摘要

An X-ray mask support member comprises a support frame, and a support membrane which is held which is thereon and comprises X-ray-transmissive membranes laminated in multi-layers. The support membrane comprises and holds between the multi-layers at least one layer of a transmissive membrane T having an electrical resistivity of 1 x 10⁻⁴ Ω·cm or less.
机译:X射线掩模支撑构件包括支撑框架和保持在其上的支撑膜,该支撑膜包括层压成多层的X射线透射膜。支撑膜在多层之间包括并保持至少一层电阻率为1×10 -4Ω·cm或更小的透射膜T。

著录项

  • 公开/公告号EP0323263B1

    专利类型

  • 公开/公告日1995-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CANON KK;

    申请/专利号EP19880312419

  • 申请日1988-12-29

  • 分类号G03F1/00;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 04:14:05

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