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APPARATUS TO FEED ELECTROPLATING TANKS WITH PULSED CURRENT

机译:用脉冲电流进给电镀槽的装置

摘要

FIELD: electrolytic metallurgy. SUBSTANCE: apparatus has connected in series to each other: switching unit with thyristor, switching capacitor, linear choke and thyristor trigger with matching members and adjustable delay unit. EFFECT: apparatus to feed electroplating tanks with pulsed current is used in electrolytic metallurgy. 2 dwg
机译:领域:电解冶金。实质:设备已相互串联:带晶闸管的开关单元,开关电容器,线性扼流圈和带匹配元件和可调延迟单元的晶闸管触发器。效果:在电解冶金中使用了向电镀槽提供脉冲电流的设备。 2 dwg

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