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Process for measuring surface topography using atomic force microscopy

机译:使用原子力显微镜测量表面形貌的方法

摘要

Accuracy and repeatability of atomic force microscopy (AFM) are improved by coating a single crystal silicon probe tip with a layer of carbon. The carbon-coated probe tip is brought into contact with a specimen surface, and is scanned across the area of interest. The carbon coating improves the interaction between the probe tip and specimen surface, particularly insulating surfaces, by reducing probe tip damage and minimizing charge build-up.
机译:原子力显微镜(AFM)的准确性和可重复性通过在单晶硅探针尖端上覆盖一层碳来提高。碳涂层的探针尖端与样品表面接触,并在感兴趣的区域进行扫描。碳涂层可通过减少探针损坏并最大程度地减少电荷积累来改善探针与样品表面(特别是绝缘表面)之间的相互作用。

著录项

  • 公开/公告号US5383354A

    专利类型

  • 公开/公告日1995-01-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOTOROLA INC.;

    申请/专利号US19930172974

  • 发明设计人 BRUCE B. DORIS;RAMA I. HEGDE;

    申请日1993-12-27

  • 分类号G01B5/28;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 04:05:33

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