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Vertical field-effect transistor and a semiconductor memory cell having the transistor

机译:垂直场效应晶体管和具有该晶体管的半导体存储单元

摘要

The disclosure includes a vertical field-effect transistor (115) with a laterally recessed channel region (92), a vertical field- effect transistor (116) having a graded diffusion junction (31), a static random access memory cell (110) having a vertical n-channel field-effect transistor (116) and a vertical p-channel field-effect transistor (115) and methods of forming them. In one embodiment, a six-transistor static random access memory cell (110) has two pass transistors (111 and 114), which are planar n-channel field-effect transistors, two latch transistors (113 and 116), which are vertical n-channel field-effect transistors with drain regions having graded diffusion junctions (31), and two load transistors (112 and 115), which are vertical p-channel thin- film field-effect transistors having laterally recessed channel regions (92).
机译:本公开包括具有横向凹入的沟道区(92)的垂直场效应晶体管(115),具有梯度扩散结(31)的垂直场效应晶体管(116),具有以下特征的静态随机存取存储单元(110):垂直n沟道场效应晶体管(116)和垂直p沟道场效应晶体管(115)以及形成它们的方法。在一个实施例中,六晶体管静态随机存取存储单元(110)具有两个通过晶体管(111和114),它们是平面n沟道场效应晶体管,两个锁存晶体管(113和116)是垂直n沟道。 -沟道场效应晶体管,其漏极区域具有梯度扩散结(31),以及两个负载晶体管(112和115),它们是具有横向凹入的沟道区域(92)的垂直p沟道薄膜场效应晶体管。

著录项

  • 公开/公告号US5416736A

    专利类型

  • 公开/公告日1995-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOTOROLA INC.;

    申请/专利号US19940279963

  • 发明设计人 YASUNOBU KOSA;HOWARD C. KIRSCH;

    申请日1994-07-25

  • 分类号H01L21/70;H01L27/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 04:04:58

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