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METHOD amp; DEVICE FOR A FORMATION OF A GRANULAR THIN FILM USING A VACUUM THERMAL EVAPORATION AND SPUTTERING

机译:利用真空热蒸发和溅射形成颗粒状薄膜的方法和装置

摘要

This invention relates to the method for forming fine granula thin film using vacuum heat deposition, describes the method comprising the steps of forming a first material by vacuum heat deposition wherein the pressure in the reacting chamber remains a first pressure not forming plasma for sputtering; and spreading a second material with granular shape in the first material by sputtering method wherein the pressure in the reacting chamber remains a second pressure forming plasma for sputtering.
机译:本发明涉及利用真空热沉积形成细颗粒薄膜的方法,该方法包括通过真空热沉积形成第一材料的步骤,其中反应室中的压力保持第一压力而不形成用于溅射的等离子体。通过溅射法在第一材料中散布颗粒状的第二材料,其中反应室中的压力保持为第二压力形成等离子体,用于溅射。

著录项

  • 公开/公告号KR960015095B1

    专利类型

  • 公开/公告日1996-10-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KOREA TELECOM CORP.;

    申请/专利号KR19940015282

  • 发明设计人 JOO SEUNG-KI;PARK JOO-WOOK;KIM JAE-HONG;

    申请日1994-06-29

  • 分类号C23C16/54;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 03:45:11

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