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Crystallographically oriented growth of silicon over a glassy substrate

机译:硅在玻璃基底上的晶体学取向生长

摘要

A method of forming a crystallographically oriented silicon layer over a glassy layer of, for example, SiO.sub.2. A templating layer of a layered perovskite, preferably Bi.sub.4 Ti.sub.3 O.sub.12, is deposited on the glassy layer under conditions favoring its crystallographic growth with its long c-axis perpendicular to the film. The silicon is then grown over the templating layer under conditions usually favoring monocrystalline growth. Thereby, it grows crystallographically aligned with the underlaying templating layer.
机译:一种在例如SiO 2的玻璃状层上形成晶体学取向的硅层的方法。在有利于其晶体学生长且其长c轴垂直于膜的条件下,将层状钙钛矿,优选Bi 4 Ti 3 O 12的模板层沉积在玻璃层上。然后在通常有利于单晶生长的条件下在模板层上生长硅。因此,它在晶体学上与底层模板层对齐。

著录项

  • 公开/公告号US5556463A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GUENZER;CHARLES S.;

    申请/专利号US19950462006

  • 发明设计人 CHARLES S. GUENZER;

    申请日1995-06-05

  • 分类号C30B25/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 03:37:50

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