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Two-stage annealing process for amorphous ribbon used in an EAS marker

机译:EAS标记中使用的非晶带的两阶段退火工艺

摘要

A two-step continuous annealing process is applied to an amorphous metal alloy ribbon. During the first annealing step, a saturating transverse magnetic field is applied, and the field is omitted during the second annealing step. After the two annealing steps, the material is cut into discrete strips suitable for use as active elements in pulsed-field magnetomechanical EAS markers. The resulting markers exhibit satisfactory total frequency shift and ring-down signal amplitude characteristics, without excessive sensitivity to bias field variations.
机译:将两步连续退火工艺应用于非晶态金属合金薄带。在第一退火步骤期间,施加饱和横向磁场,并且在第二退火步骤期间省略该磁场。在两个退火步骤之后,将材料切成离散的条状,适合用作脉冲场磁机械EAS标记器中的有源元件。所得的标记物表现出令人满意的总频移和振铃信号幅度特性,而对偏置场变化没有过度的敏感性。

著录项

  • 公开/公告号US5568125A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SENSORMATIC ELECTRONICS CORPORATION;

    申请/专利号US19950508580

  • 发明设计人 NEN-CHIN LIU;

    申请日1995-07-28

  • 分类号G08B13/24;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 03:37:43

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