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机译:zentriervorrichtung久坐不动,被Biegeelastischen基材拒收
公开/公告号DE29808245U1
专利类型
公开/公告日1998-10-08
原文格式PDF
申请/专利权人 BRESCH GOTTHARD 73553 ALFDORF DE;
申请/专利号DE1998208245U
发明设计人
申请日1998-04-14
分类号A47C7/40;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 02:43:27
机译: 包括对不合格晶片进行再处理的基板处理方法
机译: 用于涂覆基材的高压蒸发池,包括一个内部区域,该区域适合于排除涂料蒸汽,并以这样的方式形成:在池运行过程中,蒸汽原子不会自行击落
机译: 用于抑制导电性的LCD基板,以及使用该基板的LCD基板