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Method for producing a semiconductor component with electrical connection terminals for high integration density

机译:具有用于高集成度的电连接端子的半导体组件的制造方法

摘要

A semiconductor component, wherein the common power supply is fed via buried metal layers (7, 9) which are present over the entire area and are connected to active functional elements (1) by vertical conductive connections (13, 15), the planes with which contact is not intended to be made being insulated from these vertical connections (13, 15) by dielectric (11) sheathing the latter.
机译:一种半导体组件,其中,公共电源通过埋入式金属层(7、9)供电,该埋入式金属层遍布整个区域,并通过垂直导电连接(13、15)连接到有源功能元件(1),不应使这些垂直连接(13、15)通过覆盖在其上的电介质(11)与该垂直连接(13、15)绝缘。

著录项

  • 公开/公告号US5798297A

    专利类型

  • 公开/公告日1998-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号US19960545648

  • 发明设计人 JOSEF WINNERL;JOHANN ALSMEIER;

    申请日1996-01-02

  • 分类号H01L21/4763;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:38:46

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