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Sub-pixel mask generation method and apparatus for computer graphics system

机译:用于计算机图形系统的亚像素掩模生成方法和装置

摘要

PURPOSE: To provide a method and a device for generating a subpixel mask. ;CONSTITUTION: This method is provided with a stage for directly generating the subpixel mask of a polygon edge through arithmetic, without using look-up tables and forming a sub-block by dividing the pixel into (n) pieces of sub-blocks according to gradient, stage for calculating a sub-block coverage 22 as a distance from the border lines of pixels and the intersections of (n) pieces of sub- blocks and the polygon edge, and stage for generating (n)×(n) pieces of subpixel masks through the calculated sub-block coverage 22. Thus, aliasing generated from the edge can be removed.;COPYRIGHT: (C)1995,JPO
机译:目的:提供一种产生亚像素掩模的方法和装置。 ;构成:此方法提供了一个阶段,该阶段可通过算术直接生成多边形边缘的子像素蒙版,而无需使用查找表并通过将像素划分为n个子块来形成一个子块。梯度,用于将子块覆盖率22计算为距像素的边界线和(n)个子块与多边形边缘的交点的距离的阶段,以及用于生成(n)×(n)个子块的阶段子像素通过计算的子块覆盖范围22进行遮罩。因此,可以消除边缘产生的混叠。;版权所有:(C)1995,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP2910979B2

    专利类型

  • 公开/公告日1999-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANSEI DENSHI KK;

    申请/专利号JP19940226974

  • 发明设计人 CHO SHUNKO;GI EITETSU;SAI SOKICHI;

    申请日1994-09-21

  • 分类号G06T11/20;G06T3/40;G06T11/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 02:30:42

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