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Plasma source and ion implanting apparatus using the same

机译:等离子体源和使用该等离子体源的离子注入设备

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号GB0002297D0

    专利类型

  • 公开/公告日2000-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NISSIN ELECTRIC CO LTD;

    申请/专利号GB20000002297

  • 发明设计人

    申请日2000-02-02

  • 分类号G21K5/04;H01J37/317;H01J37/32;H01L21/265;H05H1/46;

  • 国家 GB

  • 入库时间 2022-08-22 01:39:28

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