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GALLIUM PHOSPHIDE-ARSENIDE MIXED CRYSTAL EPITAXIAL WAFER

机译:砷化镓砷化物混合晶体环氧树脂晶片

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gallium phosphide-arsenide mixed crystal epitaxial wafer which is suitable for producing LED arrays whose optical outputs are scarcely irregular.;SOLUTION: This gallium phosphide-arsenide mixed crystal epitaxial wafer comprising a compound single crystal substrate which has a zinc blend type crystal structure and comprises an element in the group IIIb and an element in the group Vb in the periodic table and a gallium phosphide-arsenide mixed crystal epitaxial layer formed on the substrate, characterized by having a GaAs1-xPx (0X≤0.45) mixed crystal epitaxial layer having a carrier concentration of 0. 95 to 20×1017 cm-3 on a surface deviated at an angle of 3 to 30° to (100) surface as the surface direction of the surface of the single crystal substrate.;COPYRIGHT: (C)2001,JPO
机译:解决的问题:提供一种磷化镓-砷化物混合晶体外延晶片,该晶片适合于生产光输出几乎不规则的LED阵列。;解决方案:该磷化镓-砷化物混合晶体外延晶片包括复合单晶衬底,该衬底具有一种锌混合型晶体结构,包括元素周期表中IIIb组的元素和Vb组的元素以及形成在基板上的磷化镓-砷化物混合晶体外延层,其特征在于具有GaAs1-xPx(0 X≤ 0.45)混合晶体外延层,其在以3至30°角偏离的表面上的载流子浓度为0. 95至20×1017 cm-3。以(100)表面为单晶衬底表面的表面方向。;版权所有:(C)2001,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP2001233698A

    专利类型

  • 公开/公告日2001-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI CHEMICALS CORP;

    申请/专利号JP20000045515

  • 发明设计人 SATO TADASHIGE;

    申请日2000-02-23

  • 分类号C30B29/44;H01L21/205;H01L33/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 01:29:45

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