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机译:使用模板化介孔二氧化硅合成耐磨损的非均相催化剂。
公开/公告号ZA200002569B
专利类型
公开/公告日2000-12-01
原文格式PDF
申请/专利权人 UNIVERSITY OF NEW MEXICO;
申请/专利号ZA20000002569
发明设计人 HIEN N. PHAM;DATYE ABHAYA K.;
申请日2000-05-24
分类号7B01JA;
国家 ZA
入库时间 2022-08-22 01:23:41
机译: 使用模板化介孔二氧化硅合成耐磨损的非均相催化剂
机译: 使用可控制表面疏水性的立方介孔二氧化硅模板轻松合成高度有序的介孔银