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High frequency plasma source with support for field coil, gas distribution and plasma jet extraction, has additional high frequency matching network

机译:高频等离子体源,支持场线圈,气体分配和等离子体射流提取,并具有额外的高频匹配网络

摘要

In the interior of the plasma source, there is an additional high frequency massing network (2)
机译:在等离子源的内部,还有一个附加的高频按摩网络(2)

著录项

  • 公开/公告号DE10008483A1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CCR GMBH BESCHICHTUNGSTECHNOLOGIE;

    申请/专利号DE2000108483

  • 发明设计人 DAHL ROLAND;WALTER MANFRED;

    申请日2000-02-24

  • 分类号H01G5/011;H01G5/04;H03H7/38;H01G5/38;H05H1/46;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 01:09:58

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