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Process for the isothermal and isobaric chemical gas infiltration or refractory materials into a porous structure comprises sealing a part of the surface of a porous structure

机译:等温和等压化学气体渗透或耐火材料渗入多孔结构的方法包括密封多孔结构的一部分表面

摘要

Isothermal and isobaric chemical gas infiltration or refractory materials, especially carbon, into a porous structure comprises sealing at least one part of the surface of a porous structure subjected to educt gas, and inserting the porous structure into the reactor so the diffusion path for the gas is lengthened in the structure. Preferred Features: Sealing is carried out using a graphite foil which is adhered to the relevant part of the surface of the porous structure using an organic adhesive.
机译:等温和等压化学气体渗透或耐火材料,特别是碳,渗入多孔结构的步骤包括:将多孔结构的至少一部分表面密封以接受离析气体,然后将多孔结构插入反应器中,以便气体的扩散路径在结构上加长了。优选特征:使用石墨箔进行密封,该石墨箔使用有机粘合剂粘附到多孔结构表面的相关部分。

著录项

  • 公开/公告号DE10009530A1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-09-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HUETTINGER KLAUS J.;

    申请/专利号DE2000109530

  • 发明设计人 HUETTINGER KLAUS J.;

    申请日2000-02-29

  • 分类号C23C16/44;C23C16/26;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 01:09:55

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