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PROCEDURES AND REQUIREMENTS FOR REQUIREMENTS OF FOTOR SYSTEM ON NON-LEVEL BASIC SAMPLES

机译:非基本样本上的FOTOR系统要求的程序和要求

摘要

An applicator device for applying photoresist to a surface of a base body having a receiving device therefor, including a photoresist feeder movable relative to the base body, the feeder being a point source device, and a device for performing a defined movement of the base body, comprising a conically shaped tip formed on the point source device for applying photoresist in a defined spot.
机译:用于将光致抗蚀剂施加到基体表面的施加器装置,具有用于该接收器的接收装置,该施加器装置包括相对于基体可移动的光致抗蚀剂进给器,该进给器是点源装置,以及用于执行基体的确定的运动的装置包括形成在点源装置上的圆锥形尖端,用于在限定的位置施加光刻胶。

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