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Surface modification using an atmospheric pressure glow discharge plasma source

机译:使用大气压辉光放电等离子体源进行表面改性

摘要

A method for producing stable atmospheric pressure glow discharge plasmas using RF excitation and the use of said plasmas for modifying the surface layer of materials. The plasma generated by this process and its surface modification capability depend on the type of gases used and their chemical reactivity. These plasmas can be used for a variety of applications, including etching of organic material from the surface layer of inorganic substrates, as an environmentally benign alternative to industrial cleaning operations which currently employ solvents and degreasers, as a method of stripping paint from surfaces, for the surface modification of composites prior to adhesive bonding operations, for use as a localized etcher of electronic boards and assemblies and in microelectronic fabrication, and for the sterilization of tools used in medical applications.
机译:一种使用RF激发产生稳定的大气压辉光放电等离子体的方法,以及所述等离子体用于改性材料的表面层的方法。该过程产生的等离子体及其表面改性能力取决于所用气体的类型及其化学反应性。这些等离子体可用于多种应用,包括从无机基材表面层蚀刻有机材料,作为目前使用溶剂和脱脂剂的工业清洁操作的环境友好替代品,作为从表面上剥离油漆的方法,在粘合剂粘合操作之前,对复合材料进行表面改性,以用作电子板和组件的局部蚀刻剂,并用于微电子制造,以及用于医疗用途的工具灭菌。

著录项

  • 公开/公告号US2001000207A1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LI KIN;TANIELIAN MINAS;

    申请/专利号US20000732425

  • 发明设计人 KIN LI;MINAS TANIELIAN;

    申请日2000-12-07

  • 分类号B44C1/22;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:07:38

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