首页> 外国专利> POLISHING WHEEL, MANUFACTURING METHOD FOR POLISHING WHEEL AND POLISHING METHOD

POLISHING WHEEL, MANUFACTURING METHOD FOR POLISHING WHEEL AND POLISHING METHOD

机译:抛光轮,抛光轮的制造方法和抛光方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provided a polishing wheel which always creates a new polishing surface even when the polishing surface is worn, and realizes a stable polishing performance. SOLUTION: This polishing wheel 20 is formed by spirally winding a sheet 24 provided with a polishing layer 25 on a surface thereof, and an exposing end of a side edge portion in a width direction of the sheet forms a polishing surface.
机译:要解决的问题:提供一种即使在磨损了抛光面的情况下也总是产生新的抛光面并实现稳定的抛光性能的抛光轮。解决方案:该抛光轮20是通过将表面上设有抛光层25的薄板24螺旋缠绕而形成的,并且在薄板的宽度方向上的侧边缘部分的暴露端形成抛光表面。

著录项

  • 公开/公告号JP2002154060A

    专利类型

  • 公开/公告日2002-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SONY CORP;ROKI TECHNO CO LTD;

    申请/专利号JP20000353489

  • 申请日2000-11-20

  • 分类号B24D7/02;B24B37/00;B24D3/00;B24D7/00;B24D11/00;C09K3/14;H01L21/304;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 00:55:55

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号