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Apparatus having a static eliminator for manufacturing semiconductor devices and a method for eliminating a static electricity on a semiconductor wafer

机译:具有用于制造半导体器件的静电消除器的设备以及用于消除半导体晶片上的静电的方法

摘要

An ion generator generates ions above a semiconductor wafer and the ions are directed towards a surface of a semiconductor wafer. The ions combine with static charges on the semiconductor wafer to thereby discharge the surface of the semiconductor wafer.
机译:离子发生器在半导体晶片上方产生离子,并且离子被导向半导体晶片的表面。离子与半导体晶片上的静电荷结合,从而使半导体晶片的表面放电。

著录项

  • 公开/公告号US2002137364A1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SONODA AKIHIRO;

    申请/专利号US20020147823

  • 发明设计人 AKIHIRO SONODA;

    申请日2002-05-20

  • 分类号H01L21/477;H01L21/42;H01L21/324;H01L21/26;C23F1/00;C23C16/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:52:06

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