首页> 外国专利> Method for manufacturing a substrate with an oxide ferroelectric thin film formed thereon and a substrate with an oxide ferroelectric thin film formed thereon

Method for manufacturing a substrate with an oxide ferroelectric thin film formed thereon and a substrate with an oxide ferroelectric thin film formed thereon

机译:上面形成有氧化物铁电薄膜的基板的制造方法以及上面形成有氧化物铁电薄膜的基板的制造方法

摘要

A method for manufacturing a substrate with an oxide ferroelectric thin film formed thereon includes the steps of forming an electrode on a substrate, prebaking the substrate with the electrode formed thereon and forming an oxide ferroelectric thin film on the resultant electrode.
机译:制造其上形成有氧化物铁电薄膜的衬底的方法包括以下步骤:在衬底上形成电极;预烘烤其上形成有电极的衬底;以及在所得电极上形成氧化物铁电薄膜。

著录项

  • 公开/公告号US6376090B1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHARP KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号US19990406282

  • 发明设计人 TAKESHI KIJIMA;

    申请日1999-09-24

  • 分类号B32B150/40;H01L490/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:48:39

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号