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Dot matrix hologram for hiding a moire pattern

机译:点矩阵全息图,用于隐藏波纹图案

摘要

A moire pattern technology about a dot matrix hologram for hiding a moire pattern is invented. In the moire pattern hidden region of a dot matrix hologram, the moire pattern foreground area and the moire pattern background area are formed identically by interlacing bright lines and dark lines. While position shifting is formed between the lines of the two areas. This position shifting is several times of the size of the grating dots. Thus, a moire pattern hidden in the moire pattern hidden region without being processed specially has a poor hiding ability. Often the above moire pattern can be identified by eyes directly without using a decoding film. Therefore, such kinds of moire patterns have poor hidden effects. However, the moire pattern of the present invention can prevent the aforesaid phenomenon by a well designed pretended pattern. Moreover, the appearance of such a dot matrix hologram can be beautified by the addition of the pretended patern. Furthermore, in the present invention, a technology of one-dimensional moire patterns is upgraded to a technology of two-dimensional moire patterns.
机译:发明了关于用于隐藏莫尔图案的关于点矩阵全息图的莫尔图案技术。在点矩阵全息图的莫尔图案隐藏区域中,通过将亮线和暗线交织,从而使莫尔图案前景区域和莫尔图案背景区域相同地形成。在两个区域的线之间形成位置偏移。这种位置偏移是光栅点大小的几倍。因此,在没有特别处理的情况下隐藏在莫尔图案隐藏区域中的莫尔图案的隐藏能力差。通常,无需使用解码膜就可以直接用眼睛识别上述莫尔图案。因此,这种云纹图案的隐藏效果差。然而,本发明的莫尔条纹图案可以通过精心设计的假图案来防止上述现象。而且,这种点矩阵全息图的外观可以通过增加假装图案来美化。此外,在本发明中,将一维波纹图案的技术升级为二维波纹图案的技术。

著录项

  • 公开/公告号US6317226B1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AHEAD OPTOELECTRONICS INC.;

    申请/专利号US19990408934

  • 发明设计人 HSIU-HUNG LIN;JIE-TSUEN LAN;SHENG-LIE YEH;

    申请日1999-09-30

  • 分类号G03H10/00;G02B51/80;B42D150/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:48:29

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