首页> 外国专利> Method and apparatus for elimination of parasitic bipolar action in complementary oxide semiconductor (CMOS) silicon on insulator (SOI) circuits

Method and apparatus for elimination of parasitic bipolar action in complementary oxide semiconductor (CMOS) silicon on insulator (SOI) circuits

机译:消除绝缘体上互补氧化物半导体(CMOS)电路中的互补硅氧化物半导体(CMOS)中的寄生双极作用的方法和装置

摘要

The present invention is an apparatus and method for eliminating parasitic bipolar transistor action in a Silicon on Insulator (SOI) Metal Oxide Semiconductor (MOS) device. In accordance with the invention a SOI electronic device and an active discharging device coupled to said SOI electronic device is provided to deactivate the parasitic bipolar transistor. The parasitic bipolar transistor action is deactivated by controlling the conduction of an active discharging device, said active discharging device being coupled to said SOI device.
机译:本发明是用于消除绝缘体上硅(SOI)金属氧化物半导体(MOS)器件中的寄生双极晶体管作用的装置和方法。根据本发明,提供了SOI电子设备和耦合到所述SOI电子设备的有源放电设备以去激活寄生双极晶体管。寄生双极晶体管的作用通过控制有源放电器件的导通而去激活,所述有源放电器件耦合到所述SOI器件。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号