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Metal mold for use in nano-imprint lithography, comprises monomolecular non-sticking layer obtained by subjecting mold to reaction with fluoroalkyl compound having mercapto group

机译:用于纳米压印光刻的金属模具,包括通过使模具与具有巯基的氟烷基化合物反应而获得的单分子不粘层。

摘要

A metal mold comprises a firmly adhering monomolecular non-sticking layer obtained by subjecting the mold to a reaction with a fluoroalkyl compound having a mercapto group. As a result of the reaction, the layer comprises a sulfide of the metal.
机译:金属模具包括通过使模具与具有巯基的氟烷基化合物反应而获得的牢固粘附的单分子非粘性层。作为反应的结果,该层包含金属的硫化物。

著录项

  • 公开/公告号SE517093C2

    专利类型

  • 公开/公告日2002-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OBDUCAT AB;

    申请/专利号SE20000000173

  • 申请日2000-01-21

  • 分类号B41M1/06;B81C1/00;B82B1/00;G03F7/00;

  • 国家 SE

  • 入库时间 2022-08-22 00:42:56

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