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RESIST PROFILE CALCULATION METHOD AND RESIST PROFILE CALCULATION SYSTEM

机译:抗蚀剂轮廓计算方法和抗蚀剂轮廓计算系统

摘要

The resist shape calculation method and system can shorten the calculation time. The method and system extend the kernel function of the optical system by three times the diffusion length to fill the extended region with zeros, and use the new kernel function obtained from the convolutional integration of the optical kernel function and the Gaussian function. Shape calculation is performed.
机译:抗蚀剂形状的计算方法和系统可以缩短计算时间。该方法和系统将光学系统的核函数扩展为扩散长度的三倍,以用零填充扩展区域,并使用从光学核函数和高斯函数的卷积积分获得的新核函数。进行形状计算。

著录项

  • 公开/公告号KR100354277B1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 닛본 덴기 가부시끼가이샤;

    申请/专利号KR20000008931

  • 发明设计人 이누이히로또모;

    申请日2000-02-24

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 00:29:25

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