要解决的问题:提供一种能够在短时间内容易地评价抗蚀剂膜的质量均匀性的膜质量评价方法和装置,线宽变化评价方法和能够评价抗蚀剂膜的变化的装置。基于膜质量的评估的线宽,以及具有基于线宽度的变化的评估以改善线宽的膜质量评估功能的处理方法和装置。
溶液:在晶片W的表面上施加抗蚀剂溶液以形成抗蚀剂膜80,加热晶片W以使包含在抗蚀剂膜80中的溶剂蒸发,然后抗蚀剂膜80的厚度在进行显影处理之前和之后,在不同的同心圆上的多个点处测量抗蚀剂膜80的厚度,基于由a引起的测量值差,在不同的同心圆上的多个点处计算抗蚀剂膜80的厚度减小。显影工艺,并基于膜80的厚度减少量评估抗蚀剂膜80的质量。
版权:(C)2003,JPO
公开/公告号JP2003197499A
专利类型
公开/公告日2003-07-11
原文格式PDF
申请/专利权人 TOKYO ELECTRON LTD;
申请/专利号JP20010390743
申请日2001-12-25
分类号H01L21/027;G03F7/26;G03F7/30;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 00:20:14