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Servo control for high emittance electron source

机译:伺服控制高发射电子源

摘要

An automatic control servo system having a number of cascaded loops equal in number to the number of voltage sources applied to elements of a high-emittance electron source provides accurate and stable electron emission current control independently of beam energy and accommodates large differences in thermal mass between the elements of the electron source, as may be encountered in high-emittance, indirectly heated cathode electron sources. Individual loops of the system may be critically tuned independently of each other.
机译:一种自动控制伺服系统,其级联回路的数量等于施加在高发射率电子源的元件上的电压源的数量,可独立于电子束能量而提供准确而稳定的电子发射电流控制,并能适应两者之间热质量的巨大差异电子源的元素,如在高发射率中间接加热的阴极电子源中可能遇到的。系统的各个回路可能会彼此独立地进行严格调整。

著录项

  • 公开/公告号US6590216B1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIKON CORPORATION;

    申请/专利号US20000492076

  • 发明设计人 STEVEN D. GOLLADAY;SAMUEL K. DORAN;

    申请日2000-01-27

  • 分类号B23K150/00;G01R190/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:04:40

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