机译:负性抗蚀剂生产用于微芯片生产中的半导体衬底结构化,它使用具有酸不稳定基团的聚合物释放锚定基团,该锚定基团与含硅的放大剂的反应性基团配位
公开/公告号DE10131667A1
专利类型
公开/公告日2003-01-16
原文格式PDF
申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;
申请/专利号DE2001131667
发明设计人 ROTTSTEGGE JOERG;KUEHN EBERHARD;HERBST WALTRAUD;ESCHBAUMER CHRISTIAN;HOHLE CHRISTOPH;FALK GERTRUD;SEBALD MICHAEL;
申请日2001-06-29
分类号G03F7/32;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 23:42:52