机译:在半导体衬底上制造垂直轮廓电极的步骤包括在衬底上提供一个漆面成型体,在该漆面成型体上沉积金属,以及与该金属一起去除漆面结构。
公开/公告号DE10204621A1
专利类型
公开/公告日2003-08-07
原文格式PDF
申请/专利权人 MAILE BERND E.;
申请/专利号DE2002104621
发明设计人 MAILE BERND E.;
申请日2002-02-05
分类号H01L21/336;H01L21/283;H01L21/768;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 23:42:11