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Surface positioning device distortion measuring method uses vectorial spacing of measuring positions from reference positions detected by camera moved across assembly field by positioning device

机译:表面定位装置畸变测量方法使用测量位置与参考位置的矢量间隔,该参考位置是通过定位设备在装配区域上移动的摄像机检测到的参考位置的

摘要

The measuring method uses the positioning device for relative movement between a camera and an assembly field, with detection of 2 sets of perpendicular reference markings by the camera and identification of corresponding measuring positions for calculation of the local distortion from the vectorial distance of each measuring position from each reference position.
机译:该测量方法使用定位装置在摄像机和装配场之间进行相对运动,并通过摄像机检测2组垂直参考标记并识别相应的测量位置,以便根据每个测量位置的矢量距离来计算局部变形从每个参考位置开始。

著录项

  • 公开/公告号DE10224993C1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号DE2002124993

  • 发明设计人 PRUEFER MARTIN;

    申请日2002-06-05

  • 分类号G01B21/00;G01B21/04;H05K13/02;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:42:01

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