要解决的问题:提供一种紧凑的过滤器,用于以高渗透效率分离氢气。解决方案:透氢过滤器的制造方法包括以下步骤:在硅基板1的两个侧面2、3的每一个上形成热氧化膜4;形成用于Pd-Ag合金膜50的步骤。在作为衬底1的一侧2的膜4表面上选择性地渗透氢,并在膜50上形成SiO 2蚀刻保护膜6,这是在膜50的另一侧3上对膜4进行构图的步骤。对应于要在基板1上形成的多个通孔7的基板1,基于图案化结果通过蚀刻去除成为基板1的通孔7的部分的步骤,以及去除步骤然后,通过蚀刻,在基板1的另一侧面3上形成膜6,膜4,在基板1的贯通孔7处形成膜4。优选的是,在形成膜50之前,在形成有膜50的基板1的表面上形成多个凹部。
版权:(C)2004,日本特许厅和日本国家唱片公司
公开/公告号JP2004267912A
专利类型
公开/公告日2004-09-30
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20030062073
发明设计人 ARAKAWA KATSUHARU;
申请日2003-03-07
分类号B01D71/02;B01D53/22;B01D69/06;B01D69/10;B01J19/08;C01B3/56;C23F1/00;C23F1/24;C23F4/00;H01M8/04;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:33:53