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Mbe-method for production of a gallium manganese nitride ferromagnetic film

机译:用于生产氮化镓锰铁磁膜的Mbe方法

摘要

Films of gallium manganese nitride are grown on a substrate by molecular beam epitaxy using solid source gallium and manganese and a nitrogen plasma. Hydrogen added to the plasma provides improved uniformity to the film which may be useful in spin-based electronics.
机译:使用固体源镓和锰以及氮等离子体,通过分子束外延在衬底上生长氮化镓锰的膜。添加到等离子体中的氢为薄膜提供了改善的均匀性,这在基于旋转的电子设备中可能有用。

著录项

  • 公开/公告号US2004072425A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-04-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CUI YONGIJIE;LI LIAN;

    申请/专利号US20030468720

  • 发明设计人 YONGIJIE CUI;LIAN LI;

    申请日2003-08-21

  • 分类号H01L21/302;H01L21/461;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:19:25

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