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Passivation of HgCdTe Junction Diode By Annealing In Cd/Hg Atmosphere

机译:Cd / Hg气氛中HgCdTe结二极管的钝化

摘要

A method makes photodiodes by forming a HgCdTe protective, passivation layer with high Cd composition ratio on a HgCdTe semiconductor made of Group II-VI materials. The passivation layer is formed in a Cd/Hg mixed atmosphere via an annealing process wherein vaporized Cd is diffused onto the HgCdTe surface.
机译:一种通过在由II-VI族材料制成的HgCdTe半导体上形成具有高Cd组成比的HgCdTe保护性钝化层来制造光电二极管的方法。钝化层通过退火工艺在Cd / Hg混合气氛中形成,其中汽化的Cd扩散到HgCdTe表面上。

著录项

  • 公开/公告号KR100422294B1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20010037515

  • 发明设计人 서상희;김진상;

    申请日2001-06-28

  • 分类号H01L31/09;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:47:19

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