首页> 外国专利> Passivation of HgCdTe junction diode by annealing in Cd/Hg atmosphere

Passivation of HgCdTe junction diode by annealing in Cd/Hg atmosphere

机译:在Cd / Hg气氛中通过退火钝化HgCdTe结二极管

摘要

A method makes photodiodes by forming a HgCdTe protective, passivation layer with high Cd composition ratio on a HgCdTe semiconductor made of Group II-VI materials. The passivation layer is formed in a Cd/Hg mixed atmosphere via an annealing process wherein vaporized Cd is diffused onto the HgCdTe surface.
机译:一种通过在由II-VI族材料制成的HgCdTe半导体上形成具有高Cd组成比的HgCdTe保护性钝化层来制造光电二极管的方法。钝化层通过退火工艺在Cd / Hg混合气氛中形成,其中汽化的Cd扩散到HgCdTe表面上。

著录项

  • 公开/公告号US2003000454A1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SUH SANG-HEE;KIM JIN-SANG;

    申请/专利号US20020085153

  • 发明设计人 SANG-HEE SUH;JIN-SANG KIM;

    申请日2002-02-25

  • 分类号C30B13/00;C30B21/04;C30B28/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:08:41

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号