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Field effect transistor used as a DMOS transistor comprises a source region, a channel region, a drain region, a drift path, and a protection unit for connecting to a unit for influencing the conductivity of the drift path

机译:用作DMOS晶体管的场效应晶体管包括源极区,沟道区,漏极区,漂移路径以及保护单元,该保护单元用于连接至影响漂移路径的导电性的单元。

摘要

Field effect transistor comprises a source region (126a), a channel region (120a), a drain region (114), a drift path (114a) forming the part of the drain region and/or part of the source region, and a protection unit (118) for discharging charges in the transistor and for connecting to a unit (116) for influencing the conductivity of the drift path. An Independent claim is also included for a process for the production of the field effect transistor.
机译:场效应晶体管包括源极区(126a),沟道区(120a),漏极区(114),形成漏极区的一部分和/或源极区的一部分的漂移路径(114a)以及保护单元(118)用于释放晶体管中的电荷,并连接到单元(116)以影响漂移路径的电导率。独立权利要求还包括用于制造场效应晶体管的方法。

著录项

  • 公开/公告号DE10234677A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE2002134677

  • 发明设计人 MUELLER KARL-HEINZ;DUSCHL RAINER;

    申请日2002-07-30

  • 分类号H01L29/78;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:44:01

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