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arrangement for removal of ingredients of a deponiek amp; all; rpers

机译:去除小矮人和所有成分的安排;说唱歌手

摘要

arrangement for removal of ingredients of a deponiek & all; rpers (3), in which above the deponiek & all; rpers (3) a draft & auml; sserungsschicht (6) is provided by a rekultivierungsschicht (8), (9) is covered with topsoil, characterised by the fact that the draft & auml; sserungssch not as wasserhalte and ableitschicht (6) is trained.
机译:去除小矮人和所有成分的安排; rpers(3),其中在deponiek和所有之上;说唱歌手(3)草稿和帐单; sserungsschicht(6)由rekultivierungsschicht(8)提供,(9)覆盖有表土,其特征在于吃水深度sserungssch不像wasserhalte那样受过能力训练(6)。

著录项

  • 公开/公告号DE202004007349U1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CDM JESSBERGER GMBH 44793 BOCHUM DE;

    申请/专利号DE202004007349

  • 发明设计人

    申请日2004-05-05

  • 分类号B09B1/00;E02D31/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:42:52

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