机译:转印方法,薄膜装置的制造方法,集成电路的制造方法,电路基板的制造方法,电光装置,电子设备以及IC卡的制造方法
公开/公告号JPWO2003010825A1
专利类型
公开/公告日2004-11-18
原文格式PDF
申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;
申请/专利号JP20030516104
申请日2002-07-24
分类号H01L27/12;G02F1/13;G02F1/1333;H01L21/336;H01L27/08;H01L29/786;H05B33/10;H05B33/14;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:26:18