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a-C:H ISFET device, manufacturing method, and testing methods and apparatus thereof

机译:a-C:H ISFET器件,制造方法及其测试方法和装置

摘要

An a-C:H ISFET device and manufacturing method thereof. The present invention prepares a-C:H as the detection membrane of an ISFET by plasma enhanced low pressure chemical vapor deposition (PE-LPCVD) to obtain an a-C:H ISFET. The present invention also measures the current-voltage curve for different pH and temperatures by a current measuring system. The temperature parameter of the a-C:H ISFET is calculated according to the relationship between the current-voltage curve and temperature. In addition, the drift rates of the a-C:H ISFET for different pH and hysteresis width of the a-C:H ISFET for different pH loops are calculated by a constant voltage/current circuit and a voltage-time recorder to measure the gate voltage of the a-C:H ISFET.
机译:a-C:H ISFET装置及其制造方法。本发明通过等离子体增强低压化学气相沉积(PE-LPCVD)制备a-C:H作为ISFET的检测膜,以获得a-C:H ISFET。本发明还通过电流测量系统测量不同pH和温度下的电流-电压曲线。根据电流-电压曲线与温度之间的关系,计算出a-C:H ISFET的温度参数。此外,通过恒定电压/电流电路和电压时间记录器计算出用于不同pH值的aC:H ISFET的漂移率和用于不同pH回路的aC:H ISFET的滞后宽度,以测量栅极的栅极电压。 AC:H ISFET。

著录项

  • 公开/公告号US6963193B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JUNG-CHUAN CHOU;HSUAN-MING TSAI;

    申请/专利号US20040950579

  • 发明设计人 JUNG-CHUAN CHOU;HSUAN-MING TSAI;

    申请日2004-09-28

  • 分类号G01R31/02;H01L21/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:19:58

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