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Radiation-pattern-matched light-diffusing pattern for light guide edge-illuminated by a directional light source

机译:定向光源边缘照明的导光板的辐射图匹配光漫射图

摘要

An apparatus for illumination comprises a light source operable to generate a radiation pattern. The apparatus further comprises a light guide adjacent the light source, which is operable to be illuminated by the radiation pattern. The light guide comprises a pattern of varying sized dots operable to diffusely reflect the illuminating radiation pattern. The dot pattern comprises monotonically increasing dot sizes intermediate between the smallest and the largest dot sizes, such that the smallest dot size is proximate to the light source and the largest dot size is distal from the light source.
机译:用于照明的设备包括可操作以产生辐射图的光源。该设备还包括邻近光源的光导,该光导可操作以被辐射图照射。导光板包括大小可变的点的图案,该图案可操作为扩散地反射照明辐射图案。点图案包括在最小点尺寸和最大点尺寸之间的单调增加的点尺寸,以使得最小点尺寸靠近光源并且最大点尺寸远离光源。

著录项

  • 公开/公告号US6923559B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KEE YEAN NG;YEE LING TAN;

    申请/专利号US20030427337

  • 发明设计人 YEE LING TAN;KEE YEAN NG;

    申请日2003-05-01

  • 分类号F21V5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:19:56

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