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HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE USING EXCITED ATOMS

机译:使用激发原子的高密度等离子体源

摘要

A plasma source which includes a cathode assembly (202) and an anode (226)positioned adjacent to the cathode assmebly. An excited atom source generates an initial plasma and excited atoms from a volume of feed gas. The initial plasma and excited atoms are located proximate to the cathode assembly. A power supply generates an electric field between the cathode assembly and the anode. The electric field super-ionizes the initial plasma so as to generate a high-density plasma.
机译:一种等离子体源,其包括阴极组件(202)和与阴极组装在一起的阳极(226)。激发原子源从一定数量的进料气中产生初始等离子体和激发原子。初始等离子体和激发原子位于阴极组件附近。电源在阴极组件和阳极之间产生电场。电场使初始等离子体超电离,从而产生高密度等离子体。

著录项

  • 公开/公告号WO2004095498A3

    专利类型

  • 公开/公告日2005-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ZONDINC;CHISTYAKOV ROMAN;

    申请/专利号WO2004US10968

  • 发明设计人 CHISTYAKOV ROMAN;

    申请日2004-04-08

  • 分类号H01J37/34;C23C14/34;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 22:12:33

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