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SCATTER-FREE UV OPTICAL FLUORIDE CRYSTAL ELEMENTS FOR BELOW 200 NM LASER LITHOGRAPHY AND METHODS

机译:低于200海里激光光刻的无散射紫外光学氟化物晶体元素和方法

摘要

The invention provides a scatter-free below 200 nm wavelength transmitting optical fluoride lithography crystal for use with below 200 nm laser light. The invention includes making below 200 nm wavelength transmitting optical fluoride lithography crystals with a calcium fluoride feedstock in a low-chlorine graphite optical fluoride crystal crucible having a chlorine content concentration less than 0.3 ppm Cl by weight. The method includes melting calcium fluoride feedstock in the 0.3 ppm Cl graphite crucible to form a low-chlorine calcium fluoride crystal from the melt in the crucible to provide a grown calcium fluoride scatter-free crystal having a chlorine concentration less than 0.25 Cl by weight.
机译:本发明提供了一种用于200nm以下激光的无散射的低于200nm波长的透射光学氟化物光刻晶体。本发明包括在氯含量浓度小于0.3ppm Cl的低氯石墨光学氟化物晶体坩埚中用氟化钙原料制备波长低于200nm的透射光学氟化物光刻晶体。该方法包括在<0.3ppm的Cl石墨坩埚中熔融氟化钙原料,以从坩埚中的熔体形成低氯氟化钙晶体,以提供生长的无氟钙的晶体,其氯浓度小于0.25重量%的氯。 。

著录项

  • 公开/公告号EP1527362A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CORNING INCORPORATED;

    申请/专利号EP20030784803

  • 发明设计人 PRICE MICHAEL W.;RODRIGUEZ GAIL A.;

    申请日2003-07-24

  • 分类号G02B1/02;C30B11/00;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:07:44

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