首页> 中国专利> 光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体

光刻法和空间色散最小化的紫外透射氟化物晶体

摘要

本发明包括紫外线平版印刷方法。该平版印刷方法包括提供一个波长短于200nm的辐射源。该方法包括提供具有一定空间色散的氟化物立方晶体的器件。氟化物立方晶体含有许多光学极化率不同的碱土金属离子(10,20,30),以产生总体为各向同性的极化率,从而在波长短于200nm时氟化物晶体的色散降至最低。制造混合晶体的基本原理是基于这样一种事实,即介质张量的波长依赖关系式预期基于这二种情况量子力学表达式而大致随与波长无关的值成比例。也就是说,易极化及折射率更大的离子也可预期对空间色散的贡献更大。

著录项

  • 公开/公告号CN1555500A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-12-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 康宁股份有限公司;

    申请/专利号CN02817990.0

  • 申请日2002-06-21

  • 分类号G02B5/20;G02B11/00;G03F1/00;

  • 代理机构上海专利商标事务所;

  • 代理人周承泽

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2023-12-17 15:43:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-01-18

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2004-12-15

    公开

    公开

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