机译:通过磁盘轨迹整形,用于记录介质的磁盘轨迹整形方法以及用于实现用于实现磁盘轨迹整形方法的记录介质的记录介质来记录附加信息的磁盘,该介质特别是根据预防性考虑降低磁盘微型化程度
公开/公告号KR20040099944A
专利类型
公开/公告日2004-12-02
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;
申请/专利号KR20030032087
申请日2003-05-20
分类号G11B20/10;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 22:06:28