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VARACTOR WITH P++ TYPE REGION FOR ENLARGING WIDTH OF DEPLETION LAYER IN REVERSE BIAS STATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

机译:具有P ++型区域的变倍器,用于增大偏压反向状态下的耗尽层宽度及其制造方法

摘要

PURPOSE: A varactor and a manufacturing method thereof are provided to minimize the variations of frequency and capacitance due to a tuning voltage of the varactor by enlarging the width of a depletion layer in a reverse bias state using a P++ type region. CONSTITUTION: A varactor includes an N++ type semiconductor substrate(110), an N- type epitaxial layer(120) on the substrate, a P+ type region(130) in the epitaxial layer, a P++ type anode region(140) with a relatively large width compared to the P+ type region in the epitaxial layer, and an N+ type cathode region(150) in the P+ type region. The P++ anode region has a relatively small depth compared to the P+ type region. The N+ type cathode region has a relatively large depth compared to the P+ type region.
机译:用途:提供一种变容二极管及其制造方法,以通过使用P ++型区域以反向偏压状态增大耗尽层的宽度来最小化由于变容二极管的调谐电压而引起的频率和电容的变化。组成:变容二极管包括N ++型半导体衬底(110),衬底上的N-型外延层(120),外延层中的P +型区域(130),相对相对的P ++型阳极区域(140)与在外延层中的P +型区域相比具有较大的宽度,并且在P +型区域中具有N +型阴极区域(150)。与P +型区域相比,P ++阳极区域的深度相对较小。与P +型区域相比,N +型阴极区域具有相对较大的深度。

著录项

  • 公开/公告号KR20050020296A

    专利类型

  • 公开/公告日2005-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KEC CORP.;

    申请/专利号KR20030058085

  • 发明设计人 NAGASE HIROYUKI;

    申请日2003-08-21

  • 分类号H01L29/93;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:05:46

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