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机译:沟槽式IGBT的下部区域具有绝缘层的沟槽
公开/公告号DE10319515A1
专利类型
公开/公告日2004-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;
申请/专利号DE2003119515
发明设计人 TIHANYI JENOE;
申请日2003-04-30
分类号H01L29/739;H01L29/78;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 22:01:27
机译: 半导体存储单元中使用的沟槽电容器包括在半导体衬底中形成的沟槽,在沟槽的上部区域中的绝缘环,上下电容器电极以及介电层。
机译: 集成电路中使用的存储电容器具有厚的绝缘层,该厚的绝缘层形成在沟槽的下部中的沟槽壁的上部的介电中间层上。